該鍍膜機是用于鍍制高精密光學薄膜（可見光、紅外薄膜等）的真空蒸發(fā)設備,特別針對紅外膜料的蒸發(fā)特性以及紅外膜系的特點進行了優(yōu)化設計，具有高效率、高穩(wěn)定性、高重復性的特點，適合大批量連續(xù)作業(yè)要求。 系統(tǒng)用工業(yè)計算機+觸摸屏+PLC組成核心控制平臺，沿用STAR系列鍍膜機經(jīng)典控制方式,具有設計數(shù)據(jù)讀入、自動熔料、自動鍍膜、過程數(shù)據(jù)實時記錄等功能。

該鍍膜機是用于鍍制高精密光學薄膜（可見光、紅外薄膜等）的真空蒸發(fā)設備,特別針對紅外膜料的蒸發(fā)特性以及紅外膜系的特點進行了優(yōu)化設計，具有高效率、高穩(wěn)定性、高重復性的特點，適合大批量連續(xù)作業(yè)要求。 系統(tǒng)用工業(yè)計算機+觸摸屏+PLC組成核心控制平臺，沿用STAR系列鍍膜機經(jīng)典控制方式,具有設計數(shù)據(jù)讀入、自動熔料、自動鍍膜、過程數(shù)據(jù)實時記錄等功能。

該款真空鍍膜機是我公司開發(fā)的一款高精密鍍膜設備，具有生產效率高、高穩(wěn)定性、高重復性的特點。適合大批量連續(xù)作業(yè)的需求。 該款設備控制系統(tǒng)采用了STAR系列真空鍍膜機的經(jīng)典控制系統(tǒng)。鍍膜全過程自動化，全過程監(jiān)控記錄鍍膜數(shù)據(jù)。采用了以Micosoft Windows為OS的工業(yè)控制系統(tǒng)，形成了便于使用操作的開放式控制接口。

該款真空鍍膜機是我公司開發(fā)的一款高精密鍍膜設備，具有生產效率高、高穩(wěn)定性高重復性的特點。適合大批量連續(xù)作業(yè)的需求。 該款設備控制系統(tǒng)采用了STAR系列真空鍍膜機的經(jīng)典控制系統(tǒng)。鍍膜全過程自動化，全過程監(jiān)控記錄鍍膜數(shù)據(jù)。采用了以Micosoft Windows為OS的工業(yè)控制系統(tǒng)，形成了便于使用操作的開放式控制接口。

該款真空鍍膜機是我公司開發(fā)的一款高精密鍍膜設備，具有生產效率高、高穩(wěn)定性高重復性的特點。適合大批量連續(xù)作業(yè)的需求。 該款設備控制系統(tǒng)采用了STAR系列真空鍍膜機的經(jīng)典控制系統(tǒng)。鍍膜全過程自動化，全過程監(jiān)控記錄鍍膜數(shù)據(jù)。 采用了以Micosoft Windows為OS的工業(yè)控制系統(tǒng)，形成了便于使用操作的開放式控制接口。

該款真空鍍膜機是我公司開發(fā)的一款帶自動翻轉工件盤機構的高精密鍍膜設備，具有生產效率高、高穩(wěn)定性、高重復性的特點。適合大批量連續(xù)作業(yè)的需求。 該款設備控制系統(tǒng)采用了STAR系列真空鍍膜機的經(jīng)典控制系統(tǒng)。鍍膜全過程自動化，全過程監(jiān)控記錄鍍膜數(shù)據(jù)。采用了以Micosoft Windows為OS的工業(yè)控制系統(tǒng)，形成了便于使用操作的開放式控制接口。

適用于在玻璃、樹脂、陶瓷、金屬等各類材質表面上鍍制AR膜、分光 膜、濾光膜、高反膜等各類薄膜。

JS-2000T三室磁控濺射鍍膜機是一款高兼容性設備，采用射頻離化技術(ICP)，鍍膜速率高，膜層致密且硬度高，裝載板整鼓平移可連續(xù)鍍膜，節(jié)省抽放氣時間，結合全自動鍍膜控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)AR+AF鍍膜一體完成，鍍膜效率高，產品性能穩(wěn)定且重復性好，鍍制的超硬AR+AF膜測試鋼絲絨耐產擦和莫氏硬度結果均處于行業(yè)領先水平。該設備采用了以Microsoft Windows為OS的工業(yè)控制系統(tǒng)，鍍膜全過程自動化，全過程監(jiān)控記錄鍍膜數(shù)據(jù)。JS-2000T三室磁控濺射鍍膜機可鍍 Si02、Si3N4、SiON、SiH、NB205、In等不同的材料，適合鍍3D車載中控屏超硬AR膜，平板顯示/手表蓋超硬AR膜，手機屏/攝像頭蓋板超硬AR膜，手機后蓋菲林NCVM顏色膜等產品。

JS-2350是我公司開發(fā)的一款超大型磁控濺射鍍膜設備，該設備成膜速率高，TiO2速率可達0.22nm/s以上，SiO2速率可達0.45nm/s以上，具有生產效率高、穩(wěn)定性高、重復性高的特點，適合大批量連續(xù)作業(yè)的要求。 該設備采用了以Micosoft Windows為OS的工業(yè)控制系統(tǒng)，鍍膜全過程自動化（包括自動支取安裝的流水線機構），全過程監(jiān)控記錄鍍膜數(shù)據(jù)。

JS-1600是我司開發(fā)的一款磁控濺射鍍膜設備，該設備成膜速率高，TiO2速率可達0.3nm/s以上，SiO2速率可達1.0nm/s以上，適用于在玻璃、樹脂、陶瓷、金屬等各類材質表面上鍍制AR膜、分光膜、濾光膜、高反膜等各類薄膜。配合我司自主開發(fā)的自動上料系統(tǒng)，實現(xiàn)了鍍膜作業(yè)的全自動化。 該設備采用了以Microsoft Windows為OS的工業(yè)控制系統(tǒng)，鍍膜全過程自動化，全過程監(jiān)控記錄鍍膜數(shù)據(jù)。

JS-1100是我司開發(fā)的一款磁控濺射鍍膜設備，該設備成膜速率高，TiO2速率可達0.3nm/s以上，SiO2速率可達1.0nm/s以上，適用于在玻璃、樹脂、陶瓷、金屬等各類材質表面上鍍制AR膜、分光膜、濾光膜、高反膜等各類薄膜。配合我司自主開發(fā)的自動上料系統(tǒng)，實現(xiàn)了鍍膜作業(yè)的全自動化。 該設備采用了以Microsoft Windows為OS的工業(yè)控制系統(tǒng)，鍍膜全過程自動化，全過程監(jiān)控記錄鍍膜數(shù)據(jù)。

我司自主研發(fā)的BEG10C電子槍經(jīng)濟實用，性能穩(wěn)定可靠，適用的真空度范圍大，受外界干擾較小。自研發(fā)以來，廣受用戶好評！

該款快速低溫捕集泵是現(xiàn)代真空鍍膜設備必備的水汽冷凍捕集系統(tǒng)，通過真空室內的盤管能快速捕集真空室內的水汽和被鍍膜零件的析出氣體，短時間內可實現(xiàn)蒸鍍所需的真空環(huán)境，使薄膜的致密度增加，在零件上的附著力更好，因此該裝備不僅能提高設備的生產效率，同時能改善薄膜產品的品質，提高良品率。

RFS離子源故障排除手冊.pdf

CP-104UL串口卡驅動.rar

EBG10C電子槍使用說明書.pdf